UV光束分析儀

UV光束分析儀/UV激光光束質(zhì)量分析儀可實(shí)現(xiàn)高分辨率實(shí)時(shí)空間光束的監(jiān)測、定量表征與強(qiáng)度分布。主用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源，檢測器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測的高靈敏度。

主要特點(diǎn)

      UV光束分析儀/UV光束特性分析

               ‐ zhun分子激光器 @193nm, 248nm, 351nm

               ‐ 固體激光器 @355nm, 266nm, 213nm

               ‐ UV LEDs, UV/VUV lamps

       寬光譜靈敏度：VUV ‐ DUV ‐ Vis ‐ NIR

       實(shí)時(shí)光學(xué)調(diào)節(jié)

      基于ISO光束參數(shù)測量

       衰減單元（可選）

Homogenized KrF

excimer laser (248nm)

Mask projection of

excimer laser beam

主要技術(shù)規(guī)格

       波長范圍~100nm …1100nm

           （<~320nm:高線性和穩(wěn)定性的量子轉(zhuǎn)換涂層；<190nm: N2/ Ar purging required）

       視場尺寸：20mmX14mm（其他尺寸可選）

       相機(jī)：CMOS 4MPixel, 12 Bit, USB3.0

       幀率：up to 15fps

       曝光時(shí)間：20us to 1s

       衰減單元：棱鏡衰減器（因子1000：1）

                        中性密度濾片

Near‐field and far‐field

profile of ArF excimer laser

(193nm), indicating 2nd

moment beam widths

Beam profile of

misaligned 355nm laser

Beam Analysis software

光束測試軟件

測試基于ISO標(biāo)準(zhǔn)

巨力光電（北京）科技有限公司立足于北京市副中心通州區(qū)，專門經(jīng)銷歐洲、美國、日本等國家制造的科學(xué)儀器設(shè)備，為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過10年的經(jīng)驗(yàn)，專業(yè)的服務(wù)水平、完善的售后服務(wù)體系。

目前主要產(chǎn)品涉及材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測量和光電器件、光伏產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件的檢測與研發(fā)等領(lǐng)域。公司本著以科技為導(dǎo)向、以客戶為中心、以服務(wù)為宗旨，竭誠為新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)！