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描述:薄膜生長速率測試儀,采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量(n&k),可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發系統等薄膜沉積過程的實時原位監控。
主要特點:
*實時薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學常數(n&k)分析,同時標準偏差統計分析;
*自動程序化校準;
*實時反饋系統;
*程序控制,可實時多層薄膜沉積監控和控制;
*多Wafer監控功能;
*Wafer基底旋轉監控和控制功能;
*所有參量原位實時檢測;
*操作裝配簡單便捷;
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